
미국이 중국에 대한 반도체 기술 제제가 성공하기 어렵다는 전망이 나왔다.
대만 TSMC 전 부사장인 Burn J. Lin은 블룸버그와 인터뷰를 통해 중국 SMIC가
이미 소유한 리소그래피 툴을 통해 5nm급 제조도 가능하게 될 것이라고 주장한 것이다.
그의 발언은 SMIC가 보유한 ASML Twinscan NXT:2000i 리소 툴을 말한 것으로,
올 초 네덜란드 정부가 중국 수출을 제한 했지만 이미 확보해 둔 장비가 있어 5nm
급 생산도 가능하게 될 것이라고 한다.
ASML's Twinscan NXT:2000i은 7nm 반도체 생산에 사용되지만 단일 패터닝이 아닌
멀티 패터닝 방식을 사용하면 5nm급 생산도 가능하게 된다.
이미 5nm 생산 기술을 확보한 TSMC나 삼성은 수율 같은 경제적인 이슈로 사용이
제한 됐지만 더 나은 패터닝 툴이 없는 중국으로썬 이 기술을 사용할 수 밖에 없다.
다행히 7nm급 기준으로 화웨이가 7천만대 공급 계획을 세울 만큼 수율은 안정화된
것으로 알려져 있어 5nm급에서도 양산에 필요한 수율 달성에는 문제가 없을 것으로
전망됐다.